使用Matheo Patent若欲製作專利地圖,可參考下列說明與相關的解讀
1. 矩陣圖:
B. 選取Applicant與IPC/ECLA/USPC : 可解讀為 競爭者技術監控地圖,可觀察各競爭對手公司在不同技術類別的發展重心分布。Applicant亦可用Inventor代替比較,但商業上的意義不大。
C. 選取Applicant與PR. (Year) : 可解讀為 競爭者研發強度發展圖,可觀察各競爭對手公司歷年來專利數量的起落成長與比較。Applicant亦可用Inventor代替比較,但商業上的意義不大。
D. 選取IPC/ECLA/USPC與PR. (Year) : 可解讀為 產業技術發展圖,可觀察此項技術歷年來發展技術類別重心的轉移。
B. 選取Inventor與Inventor : 若專案內的資料為特定某公司的專利,則此圖可解讀為此公司的 研發團隊聚落圖,可作為了解競爭對手公司重要之研發人員與研發小組的分組資訊;若專案為特定某技術或產業的專利,則此圖則可觀察各競爭對手公司之研發人員彼此合作的關係。
C. 選取IPC與IPC : 可解讀為 產業技術類別發展關聯圖,可用於觀察此產業或技術之核心技術分類碼,更重要的是可觀察,邊緣的核心技術分類碼,如產業內熟之的分類碼為A或B,但在A與B外可能連接C或D,使用者可回頭看此邊緣技術分類碼,所屬之專利內容為何,因可能由此可找尋此技術新的應用或突破,也可在以此邊緣分類碼再進行新的檢索。在技術碼的選取上也可以用ECLA-ECLA或USPC-USPC代替。
以上解讀須先將Applicant與Inventor 進行資料上的校正與合併,如此才能顯示正確的圖示。