[專利授權公告]PLASMA GENERATOR-電漿產生裝置

專利組合：獲證-US*3;KR*5; JP*1; 早期公開TW*1; US*3 共13件專利

流通方式：技轉/專屬授權/非專屬授權

應用領域：半導體製造封裝、面板製程、太陽能電池製程、紡織業、環保處理、醫療器具、奈米碳管長成、微機電的研發

技術/專利特性：

習知技術缺失：

介電材料厚度增厚、天線源長度增加、13.56MHz電源供應，成本高效率低，無法形成大面積電漿區，且不容易維修，維修時間長

本技術優勢：

商業化程度：

已有原型機如下圖示。並有技轉成功導入實例

技術強度：

專利組合被引證(Forward 1)總量：40

引證本技術之專利權人：

• APPLIED; MATERIALS（應材）;
• DONGBU HITEK(東部半導體) ;
• EMD CORP;
• KOREA ADVANCED INST SCI AND TECH(南韓高等科技大學)
• NEW POWER PLASMA CO ;
• NISSIN ELECTRIC CO(日新電機);
• SAMSUNG ELECTRONICS （三星電子）;
• SEMES CO;
• TERASEMICON CORP（泰瑞半導體）

聯  絡  人：新聚能科技  02-27298434

郭小姐  jlinkuo@synergytek.com.tw